[发明专利]光隔离器的无胶连接制作方法

摘要

本发明公开了一种光隔离器的无胶连接制作方法，其通过对光隔离器的各个元件进行表面抛光、镀膜、一次清洗、等离子体处理、RCA－1溶液浸泡、低温退火，实现各种光隔离器元件的无胶粘接，尤其低温退火处理减小了器件本身的内应力，提高了器件的机械和光学性能。

主权项

1、光隔离器的无胶连接制作方法，其特征在于：其工艺流程如下：(1)抛光，将光隔离器的各个元件的连接表面抛光，要求粗糙度的均方根值(RMS)小于1nm，面型起伏PV＜0.125λ@633nm(10mm×10mm大小)。(2)镀膜，在各个元件的连接表面上镀一层减反射膜，该膜层为氧化物膜层。(3)初步清洗，将各个元件放入乙醇或乙醇按一定比例配制而成的溶液中浸泡1～4小时。(4)等离子处理，将清洗干净的各个元件置于等离子体处理系统中进行表面处理，进一步除去各个元件表面有机污染物，并减小膜层表面粗糙度，提高膜层表面质量，增加膜层表面势能。(5)二次清洗，将等离子处理后的各个元件迅速投入RCA-1溶液中浸泡10～120min，进一步除去无机污染物，提高了各个元件的表面吸附OH-量。(6)粘接退火，用去离子水冲洗各个元件并烘干，进行粘接后，经过10～48小时的常温放置后，再进行低温退火。