[发明专利]灰阶掩模的缺陷修正方法和制造方法以及灰阶掩模

摘要

本发明提供一种灰阶掩模，在透明基板上形成半透光膜和遮光膜，通过施加规定的图案而具有遮光部、透光部、以及将曝光光的透过量降低规定量的半透光部，用于在被转印体上形成膜厚阶段性或连续性不同的抗蚀图案。利用半色调膜形成半透光部。在本发明的灰阶掩模的缺陷修正方法中，在半透光部产生缺陷时确定该缺陷部分，决定用于在确定的缺陷部分形成修正膜的成膜装置和成膜材料，在使用决定的成膜装置和成膜材料时，决定成膜面积使得曝光光的透过量在规定范围，形成决定的成膜面积的修正膜。

主权项

1.一种灰阶掩模的缺陷修正方法，所述灰阶掩模在透明基板上形成半透光膜和遮光膜，通过施加规定的图案具有：遮光部；透光部；以及将曝光光的透过量降低规定量的半透光部，所述灰阶掩模用于在被转印体上形成膜厚阶段性或连续性不同的抗蚀图案，其特征在于，利用所述半透光膜形成所述半透光部，在所述半透光部产生缺陷时确定该缺陷部分，决定用于在所述确定的缺陷部分形成修正膜的成膜装置和成膜材料，在使用所述决定的成膜装置和成膜材料时，决定成膜面积以使所述曝光光的透过量在规定范围内，形成所述决定了的成膜面积的所述修正膜。