[发明专利]红外—紫外多色探测器及其制备方法有效
申请号: | 200810079933.9 | 申请日: | 2008-12-04 |
公开(公告)号: | CN101419996A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 尹顺政;李献杰;蔡道民;齐利芳;赵永林 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | H01L31/101 | 分类号: | H01L31/101;H01L31/18 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 | 代理人: | 米文智 |
地址: | 050051河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种红外—紫外多色探测器及其制备方法,其包括有衬底,在衬底上依次生长AlN缓冲层、n型GaN/AlGaN发射层、非掺杂AlGaN势垒层、n型AlGaN窗口接触层、非掺杂AlGaN吸收层、p型AlGaN限制窗口层和p型GaN接触层形成的多色探测器台面;在n型GaN/AlGaN发射层上有n型下接触电极,在n型AlGaN窗口接触层上有n型中间接触电极,在p型GaN接触层上有p型上接触电极。本探测器具有结构简单易于生长,体积小,可实现三波段响应等优点。本探测器简化了器件结构的生长过程和加工工艺,提高了器件的抗辐射能力,减小了器件体积,降低了成本。本探测器在目标的成像、报警和监测等领域有重要的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 红外 紫外 多色 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种红外—紫外多色探测器,包括有衬底,其特征在于:在衬底上依次生长AlN缓冲层、n型GaN/AlGaN发射层、非掺杂AlGaN势垒层、n型AlGaN窗口接触层、非掺杂AlGaN吸收层、p型AlGaN限制窗口层和p型GaN接触层形成的多色探测器台面;在n型GaN/AlGaN发射层上有n型下接触电极,在n型AlGaN窗口接触层上有n型中间接触电极,在p型GaN接触层上有p型上接触电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的