[发明专利]有机晶体管、其制造方法及电子设备有效

专利信息
申请号: 200810081588.2 申请日: 2008-03-07
公开(公告)号: CN101262042A 公开(公告)日: 2008-09-10
发明(设计)人: 青木敬 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/10;H01L51/40
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及有机晶体管、其制造方法及电子设备。提供迁移率、导通截止比、阈值电压良好且特性的不一致少的有机晶体管。本发明的有机晶体管(1)具备:设置于栅电极(15)与源电极(11)的对向区域(S1)的第1半导体区域(131),设置于栅电极(15)与漏电极(12)的对向区域(S2)的第2半导体区域(132),和设置于第1半导体区域(131)与第2半导体区域(132)之间的区域(S3)的第3半导体区域(133);当设第1半导体区域(131)的厚度的平均值为W1、第2半导体区域(132)的厚度的平均值为W2、第3半导体区域(133)的厚度的平均值为W3时,W1、W2及W3满足W1、W2<W3的关系。
搜索关键词: 有机 晶体管 制造 方法 电子设备
【主权项】:
1.一种有机晶体管,其特征在于,具备:源电极及漏电极,跨前述源电极及前述漏电极之间所设置的有机半导体层,和与前述有机半导体层通过栅绝缘膜设置、与前述源电极及前述漏电极相对向地设置的栅电极;前述有机半导体层,具备:设置于前述栅电极与前述源电极相对向的对向区域的第1半导体区域,设置于前述栅电极与前述漏电极相对向的对向区域的第2半导体区域,和设置于前述第1半导体区域与前述第2半导体区域之间的第3半导体区域;当设前述第1半导体区域的厚度的平均值为W1、前述第2半导体区域的厚度的平均值为W2、前述第3半导体区域的厚度的平均值为W3时,前述W1、W2及W3,满足W1、W2<W3的关系。
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