[发明专利]光学元件、光学膜平面化方法及光学元件的制造方法有效
| 申请号： | 200810082989.X | 申请日： | 2008-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN101266308A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 冈田卓也;日向野泰男;冈崎隆一 | 申请（专利权）人： | 富士能株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;B24B13/00;B24B9/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明之一是一种光学膜平面化方法，为了缓和反射多层膜(12)的应力，在透明基板(10)的被成膜面(10S)和被磨面(10R)使面粗度具有差别，在被成膜面(10S)上形成反射多层膜(12)，被磨面(10R)毛面化后形成毛面(13)。由于反射多层膜(12)具有膜应力，因此向被成膜面(10)方向凸出的歪曲产生，并且通过形成毛面(13)，基于泰曼效应的应力起作用而向毛面(13)方向凸出的歪曲产生。膜应力和由毛面形成所引起的应力，由于向互相相反的方向弯曲，因此，使应力互相抵消，而使反射多层膜(12)平面化。从而，本发明的目的在于，在光学膜形成于薄型基板时，没有形成特别的修正用薄膜，通过对基于光学膜的膜应力进行缓和，来谋求光学膜的平面化。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 平面化 方法 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件，在基板的表面和背面使面粗度具有差别，在上述表面或上述背面中的粗度细的面形成光学膜，缓和上述光学膜的应力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士能株式会社，未经富士能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810082989.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
