[发明专利]投影光学系统、曝光装置及曝光方法

摘要

本发明提供一种使色象差和像面弯曲等诸象差被良好地修正，并具有优良的成像性能，且可良好地抑制光学面上的反射损失并确保大的有效的像侧数值孔径的比较小型的投影光学系统，且为将第1面(R)的缩小像形成在第2面(W)上的反射折射型的投影光学系统。该投影光学系统包括至少2片反射镜(CM1、CM2)、第1侧的面具有正的折射力的边界透镜(Lb)，且边界透镜和第2面间的光路由具有较1.1大的折射率的媒质(Lm)进行填充。构成投影光学系统的所有透射构件及具有折射力的所有反射构件都沿单一的光轴(AX)进行配置，并具有不包含光轴的设定形状的有效成像区域。本发明提供一种光学系统、曝光装置及曝光方法。

主权项

1、一种投影光学系统，为一种将第1面的缩小像形成在第2面上的反射折射型的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统包括2片反射镜、第1面侧的面具有正的折射力的边界透镜；当使前述投影光学系统的光路中的环境的折射率为1时，前述边界透镜和前述第2面间的光路由具有较1.1大的折射率的液体充满；构成前述投影光学系统的所有的透射构件及具有折射力的所有的反射构件沿单一的光轴进行配置；前述投影光学系统具有不含有前述光轴的设定形状的有效成像区域；以及前述投影光学系统所具有的前述2片反射镜，包括配置于光的入射侧的入射侧反射镜，以及配置在光的射出侧且反射来自前述入射侧反射镜的光的射出侧反射镜，前述入射侧反射镜与前述射出侧反射镜之间的光路中未配置透镜。