[发明专利]螺旋电感结构及其制备方法与封装结构无效

专利信息
申请号: 200810086309.1 申请日: 2008-03-25
公开(公告)号: CN101447275A 公开(公告)日: 2009-06-03
发明(设计)人: 张仕承;李惠宇 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01F17/00 分类号: H01F17/00;H01F41/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈 晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种螺旋电感结构及其制备方法与封装结构。在一个实施例中,所述方法包括提供基材,在该基材上方形成螺旋图案化导体层,用以形成平面螺旋导体。介层洞形成于螺旋图案化导体层内部的基材中,该介层洞通过硅通孔技术制成。之后,以核心层填充该介层洞,其中该核心层从该基材的下表面延伸到上表面。本发明能够提高螺旋电感结构的品质因数,并可将其整合于IC芯片上。
搜索关键词: 螺旋 电感 结构 及其 制备 方法 封装
【主权项】:
1. 一种螺旋电感结构的制备方法,包括以下步骤:提供基材;在该基材上方形成螺旋图案化导体层,该螺旋图案化导体层形成平面螺旋导体;在该螺旋图案化导体层内部的基材中形成介层洞;以及以核心层填充该介层洞,其中该核心层从该基材的下表面延伸到上表面。
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