[发明专利]半导体封装结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810087808.2 申请日: 2008-03-20
公开(公告)号: CN101252107A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 郑宏祥;黄志亿 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L21/60
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所 代理人: 翟羽
地址: 台湾省高雄市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种半导体封装结构,包含有:一半导体基材、一第一保护层、一第一金属层、一第二保护层、一第二金属层及一第三金属层,其中半导体基材具有一表面,其上具有至少一第一接垫及至少一第二接垫。第一保护层覆盖在半导体基材的表面上,且外露出第一接垫及第二接垫。第一金属层形成于第一保护层上,且与第二接垫电性连接。第二保护层形成于第一金属层上,并暴露出第一接垫及部分第一金属层。第二金属层形成于第二保护层上并电性连接第一接垫。第三金属层形成于第二保护层上,并与第一金属层电性连接。
搜索关键词: 半导体 封装 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体封装结构,包含有一半导体基材,所述半导体基材具有一表面,在所述表面上具有至少一第一接垫及至少一第二接垫;其特征在于:所述半导体封装结构还包含有:一第一保护层、一第一金属层、一第二保护层、一第二金属层及一第三金属层,其中所述第一保护层覆盖在所述半导体的表面上,且外露出所述第一接垫及所述第二接垫;所述第一金属层形成于所述第一保护层上,且与所述第二接垫电性连接;所述第二保护层形成于所述第一金属层上,并暴露出所述第一接垫及部分第一金属层;所述第二金属层形成于所述第二保护层上并电性连接所述第一接垫;以及所述第三金属层所述形成于所述第二保护层上,并与所述第一金属层电性连接。
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