[发明专利]半导体装置的制造方法有效
申请号: | 200810087968.7 | 申请日: | 2008-03-25 |
公开(公告)号: | CN101276743A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 道前芳隆;杉山荣二;大谷久;鹤目卓也 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/56;H01L21/336;H01L21/77;H01L21/84;G06K19/077 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 范征 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种高成品率地制造半导体装置的方法,该半导体装置不会因来自外部的局部挤压而破坏,可靠性高。本发明如下制造半导体装置:在具有绝缘性表面的基板上形成剥离层,在剥离层上形成具有使用非单晶半导体层形成的半导体元件的元件层,在元件层上设置有机化合物或无机化合物的纤维体,自元件层及纤维体上涂布包含有机树脂的组合物,加热,在元件层上形成有机化合物或无机化合物的纤维体被有机树脂浸渍而得的密封层,从剥离层剥离元件层。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括如下步骤;在基板上形成剥离层;在所述剥离层上形成元件层,该元件层包括具有非单晶半导体层的有源元件以及覆盖所述有源元件的绝缘层;在所述元件层上设置纤维体;自所述纤维体上方涂布包含有机树脂的组合物,形成包括所述有机树脂和所述纤维体的有机树脂层,使所述纤维体被所述有机树脂浸渍;对所述有机树脂层进行加热,形成包括所述纤维体和所述有机树脂的密封层;以及从所述剥离层剥离所述元件层和所述密封层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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