[发明专利]曝光绘图装置有效
| 申请号： | 200810088523.0 | 申请日： | 2008-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101276156A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 野中纯;李德;小林义则 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03B27/32;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 绘图 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光绘图装置，将图案绘图在被曝光体，其包括：光源，照射包含紫外线的光；有孔构件，设有用于将上述光源分离成第一光束及第二光束的第一开口窗及第二开口窗、以及光量检测用的检测窗；第一及第二光学组件，将通过上述第一开口窗及第二开口窗的上述第一光束及第二光束分别反射；以及第一光量传感器，配置在上述第一光学组件及第二光学组件之间的附近，检测出来自光源的、通过上述检测窗的光量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社ORC制作所，未经株式会社ORC制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810088523.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种针对用户选择计费规则的方法
- 下一篇：具有硬度改变特性的吸收制品扣紧装置
