[发明专利]彩色滤光片及其制造方法无效
| 申请号： | 200810089023.9 | 申请日： | 2008-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN101561524A | 公开（公告）日： | 2009-10-21 |
| 发明（设计）人： | 陈伟源;王宇宁;周景瑜 | 申请（专利权）人： | ICF科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/23 | 分类号： | G02B5/23;G02F1/1335;B41J2/01;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 美国加州95054圣*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种彩色滤光片，其包括一基板、一位于基板上的黑矩阵，该黑矩阵限定若干个次像素区及位于若干个次像素区中通过喷墨法形成的若干个颜色层。该黑矩阵组成包括：55wt％(weight％，即重量(质量)百分比)及以下的炭黑、15至95wt％的高分子聚合体以及25wt％及以下的其它添加物。所述高分子聚合体包括氟素或硅氧烷的化合物。本发明的彩色滤光片的黑矩阵单层结构即能达成喷墨法彩色滤光片制程中的传统黑矩阵与挡墙双层结构的效果。本发明还提供上述彩色滤光片的制造方法，其省去了制作挡墙的步骤，使制造工时减少，成本降低。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种彩色滤光片，其特征在于：包括，一基板；一位于基板上的黑矩阵，该黑矩阵组成包括：55wt％及以下的碳黑、15至95wt％的高分子聚合体以及25wt％及以下的其它添加物，所述高分子聚合体包括氟素或硅氧烷的化合物，该黑矩阵限定若干次像素区；及位于若干个次像素区中通过喷墨法形成的若干个颜色层。
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