[发明专利]触控电路的透明基板双面导电膜的制法有效

专利信息
申请号: 200810089058.2 申请日: 2008-04-15
公开(公告)号: CN101561729A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 周祎平 申请(专利权)人: 宸鸿光电科技股份有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044;H01L21/00;H01L21/3213;H01L21/84
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人: 邸万杰
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种触控电路的透明基板双面导电膜的制法,包含在一透明基板的第一表面的一第一导电基材层上附着一具有感光变色剂的第一光阻层,并在该透明基板的第二表面的一第二导电基材层上附着一第二光阻层;对该第一光阻层进行曝光,促使该第一光阻层接受曝光区域形成一具可供识别颜色的电路图形;利用第一次暴光的电路图形作为第二光阻层的曝光的对位基准,并对该第二光阻层进行曝光;对该透明基板双面进行显影及蚀刻,促使该第一导电基材层形成一触控电路的一第一导电膜,且该第二导电基材层形成该触控电路的一第二导电膜,据以简化触控电路的布设程序,进而具备缩减工时与降低成本的优点。
搜索关键词: 电路 透明 双面 导电 制法
【主权项】:
1、一种触控电路的透明基板双面导电膜的制法,其特征在于,包含:在一透明基板的第一表面的一第一导电基材层上附着一具有感光变色剂的第一光阻层,并在该透明基板的第二表面的一第二导电基材层上附着一第二光阻层;对该第一光阻层进行曝光,促使该第一光阻层接受曝光区域形成一具供识别颜色的电路图形;利用该电路图形作为第二光阻层曝光用的对位基准进行调整位置,并对该第二光阻层进行曝光;对该透明基板双面同时进行显影,使第一导电基材层及第二导电基材层各自裸露出一待接受蚀刻的区域;对第一导电基材层及第二导电基材层裸露的区域同时进行蚀刻,促使第一导电基材上层形成一触控电路的一第一导电膜,且第二导电基材上层形成该触控电路的一第二导电膜。
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