[发明专利]存储单元的编程方法有效

专利信息
申请号: 200810091745.8 申请日: 2008-04-14
公开(公告)号: CN101562044A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 吴昭谊 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: G11C16/10 分类号: G11C16/10;H01L27/115;H01L29/78
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种存储单元的编程方法,此编程方法为,进行一第一编程,对栅极施加第一栅极电压,漏极施加第一漏极电压,源极施加第一源极电压,以及对衬底施加第一衬底电压,以使电子进入靠近漏极侧的氮化物层中。然后,进行一第二编程,对栅极施加第二栅极电压,对漏极施加第二漏极电压,对源极施加第二源极电压以及对衬底施加第二衬底电压,以使电子进入靠近源极侧的氮化物层中。其中,第二栅极电压小于第一栅极电压。
搜索关键词: 存储 单元 编程 方法
【主权项】:
1.一种存储单元的编程方法,该存储单元包括一衬底、位于该衬底内的一漏极与一源极,以及位于该漏极与该源极之间的该衬底上的一栅极,其中该栅极由该衬底往上依序为一第一氧化物层、一氮化物层、一第二氧化物层以及一多晶硅层,其特征在于,该编程方法包括:进行一第一编程,对该栅极施加一第一栅极电压,该漏极施加一第一漏极电压,该源极施加一第一源极电压,以及对该衬底施加一第一衬底电压,以使电子由沟道热电子注入效应进入靠近该漏极侧的该氮化物层中;以及进行一第二编程,对该栅极施加一第二栅极电压,对该漏极施加一第二漏极电压,对该源极施加一第二源极电压以及对该衬底施加一第二衬底电压,以使电子由沟道热电子注入效应进入靠近该源极侧的该氮化物层中,其中该第二栅极电压小于该第一栅极电压。
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