[发明专利]光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法有效
| 申请号： | 200810092008.X | 申请日： | 2008-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN101256366A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 洪瑄英;朴弘植;郑钟铉;金俸均;申原硕;李智鲜;李炳珍;金炳郁;尹锡壹;金圣培;辛成健;许舜范 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法。提供一种光刻胶剥离组合物，其包括约80重量％－约98.5重量％的γ－丁内酯、约1重量％－约10重量％的氨基甲酸烷基酯、约0.1重量％－约5重量％的烷基磺酸和约0.1重量％－约5重量％的非离子型表面活性剂。可将该光刻胶剥离组合物再度用于从基板上剥离光刻胶膜而不降低剥离能力和损坏金属图案，使得可以降低光刻工艺的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 组合 使用 胶膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶剥离组合物，包括：80重量％-98.5重量％的γ-丁内酯；1重量％-10重量％的氨基甲酸烷基酯；0.1重量％-5重量％的烷基磺酸；和0.1重量％-5重量％的非离子型表面活性剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社，未经三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810092008.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：通信设备和通信系统
- 下一篇：半导体基板的制造方法
