[发明专利]图案化光致抗蚀剂层的形成方法无效
| 申请号： | 200810092229.7 | 申请日： | 2008-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN101561627A | 公开（公告）日： | 2009-10-21 |
| 发明（设计）人： | 黄萌祺;林正轩;张复瑜 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/26;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种图案化光致抗蚀剂层的形成方法。通过光的绕射性质，在曝光时遮光层与光致抗蚀剂层之间夹设透光层使图案化的光致抗蚀剂层具有非垂直的侧壁。本发明的方法适用于正照式曝光及背照式曝光，亦适用于正光致抗蚀剂或负光致抗蚀剂。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 化光致抗蚀剂层 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案化光致抗蚀剂层的形成方法，包括：提供基板，该基板具有上表面及下表面；形成光致抗蚀剂层于该基板的上表面上；提供透光层于该光致抗蚀剂层上；提供遮光层于该透光层上；提供曝光源，经该遮光层及该透光层后曝光该光致抗蚀剂层；以及显影该光致抗蚀剂层以形成图案化光致抗蚀剂层，且该图案化光致抗蚀剂层与该基板具有非垂直接触角。
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