[发明专利]芯片的导电结构无效
申请号: | 200810092277.6 | 申请日: | 2008-04-14 |
公开(公告)号: | CN101562161A | 公开(公告)日: | 2009-10-21 |
发明(设计)人: | 黄祥铭;刘安鸿;李宜璋;蔡豪殷;何淑静 | 申请(专利权)人: | 南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/485 | 分类号: | H01L23/485 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陆 嘉 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是关于一种芯片的导电结构,包含一接地层、一介电层、一重新分布层、一凸块下金属层及一焊块。其中,接地层与芯片的接地焊盘相连接,而介电层覆盖于接地层上。由此,导电结构可达到阻抗匹配,特别适用于可传输高频信号的芯片的封装。 | ||
搜索关键词: | 芯片 导电 结构 | ||
【主权项】:
1.一种芯片的导电结构,其特征在于,包含:一重新分布层,形成于所述芯片的一上方,其具有一第一导电区域及一第二导电区域,所述第一导电区域与所述芯片电性连接;一凸块下金属层,形成于所述重新分布层的第二导电区域上,并与其电性连接;一焊块,形成于所述凸块下金属层上,并与其电性连接;其特征在于:所述芯片及所述重新分布层之间,另设有:一接地层,形成于所述芯片上;以及一介电层,覆盖所述接地层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司,未经南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810092277.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:收银箱的罩壳与塑框的安装结构
- 下一篇:透镜及其制造方法