[发明专利]烧制用装架和蜂窝结构体的制造方法无效

专利信息
申请号: 200810092443.2 申请日: 2008-04-11
公开(公告)号: CN101318826A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 西城贵满 申请(专利权)人: 揖斐电株式会社
主分类号: C04B35/64 分类号: C04B35/64;C04B41/85;C04B35/66;C04B38/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种烧制用装架和蜂窝结构体的制造方法,该烧制用装架在使烧结体的生成反应充分进行的同时,即使反复用于蜂窝成型体的烧制也能防止涂层的剥离,能够长期使用,能够实现运行成本的削减。本发明的烧制用装架是蜂窝成型体烧制用装架,其由架体和涂层组成,所述架体用于安放以碳化硅为主要成分的柱状蜂窝成型体,并且该柱状蜂窝成型体以侧面向下的方式安放,所述涂层至少形成在所述架体的安放所述蜂窝成型体的安放面上,其特征在于,所述涂层的主要成分为碳化硅,基于JIS B 0601(2001)求出的所述涂层的算术平均高度Ra为10μm以下。
搜索关键词: 烧制 用装架 蜂窝 结构 制造 方法
【主权项】:
1.一种烧制用装架,该烧制用装架是由架体和涂层组成的蜂窝成型体烧制用装架,所述架体用于安放以碳化硅为主要成分的柱状蜂窝成型体,并且该柱状蜂窝成型体以侧面向下的方式安放,所述涂层至少形成在所述架体的安放所述蜂窝成型体的安放面上,其特征在于,所述涂层的主要成分为碳化硅,基于JIS B 0601(2001)求出的所述涂层的算术平均高度Ra为10μm以下。
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