[发明专利]相位差补偿元件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810093001.X 申请日: 2008-04-15
公开(公告)号: CN101290369A 公开(公告)日: 2008-10-22
发明(设计)人: 金谷元隆 申请(专利权)人: 富士能株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/13363
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种相位差补偿元件及其制造方法,其中折射率不同的薄膜交替层叠后的多层膜结构的相位差补偿层所产生的相位差补偿作用得到改善,基板(7a~7e)由旋转的鼓体(6)保持,且在旋转鼓体(6)的同时利用来自靶材料(9、10)的飞溅粒子使相位差补偿层溅射成膜。在相当于相位差补偿层的一半的第1单元层成膜后,旋转基板架(24),使各基板(7a~7e)围着法线旋转90°。之后,按照完全相同的方式成膜用于构成相位差补偿层的余下一半的第2单元层。
搜索关键词: 相位差 补偿 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种相位差补偿元件,在基板上具备将折射率互不相同的至少2种薄膜层叠后的多层结构的相位差补偿层,并且使所入射的光线发生对应于入射角的负的相位延迟,其特征在于,上述相位差补偿层,由第1单元层和第2单元层的组合构成,该第1单元层,是在上述基板侧层叠上述至少2种薄膜的多层结构,该第2单元层,是在该第1单元层上层叠上述至少2种薄膜的多层结构,并且,对于所入射的光线的方位角,上述第1单元层具有的相位延迟的发生分布特性大致正交于上述第2单元层所具有的相位延迟的发生分布特性。
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