[发明专利]钻针的表面镀膜方法与镀膜钻针无效
申请号: | 200810094602.2 | 申请日: | 2008-04-22 |
公开(公告)号: | CN101565821A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 林玉雪 | 申请(专利权)人: | 林玉雪 |
主分类号: | C23C16/22 | 分类号: | C23C16/22;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 梁 挥;祁建国 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种钻针的表面镀膜方法与镀膜钻针,其中钻针的表面镀膜方法包括以下步骤:提供一钻针;清洁钻针的表面,并对钻针加热;在钻针的表面形成一附着膜;在附着膜的表面形成一混合膜;以及在混合膜的表面形成一非晶质类钻石膜,用于制成一镀膜钻针。利用该镀膜方法制作的镀膜钻针包含上述的钻针、附着膜、混合膜与非晶质类钻石膜。其中,混合膜的成分包括一非晶质类钻石材料与附着膜所含的成分,在混合膜中,越远离钻针处,非晶质类钻石材料的含量越高。 | ||
搜索关键词: | 表面 镀膜 方法 | ||
【主权项】:
1、一种钻针的表面镀膜方法,其特征在于,包括以下步骤:a,提供一钻针;b,清洁该钻针的表面,并对该钻针加热;c,在该钻针的表面形成一附着膜;d,在该附着膜的表面形成一混合膜,该混合膜的成分含有一非晶质类钻石材料与该附着膜所含的成分,且在该混合膜中,越远离该钻针处,该非晶质类钻石材料的含量越高;以及e,在该混合膜的表面形成一非晶质类钻石膜,用于制成一镀膜钻针。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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