[发明专利]图案化金属氧化物层的制作方法无效
| 申请号： | 200810094824.4 | 申请日： | 2008-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN101570854A | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 杨明桓;宋兆峰;陈文隽;李裕正;郑兆凯 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C16/40;C23C16/02;C23C16/56 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种图案化金属氧化物层的制作方法，其是先提供基板。然后，对此基板进行表面改性步骤。接着，对基板进行数字打印步骤，于预形成图案化金属氧化物层的区域涂布催化剂。之后，进行低温化学镀膜步骤，以于基板上的预形成图案化金属氧化物层的区域，沉积图案化金属氧化物层。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 金属 氧化物 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案化金属氧化物层的制作方法，包括：提供基板；对该基板进行表面改性步骤；对该基板进行数字打印步骤，于预形成图案化金属氧化物层的区域涂布催化剂；以及进行低温化学镀膜步骤，以于该基板上的该区域沉积图案化金属氧化物层。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
