[发明专利]光刻设备和方法有效
| 申请号： | 200810094981.5 | 申请日： | 2008-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101299134A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·鲁克斯 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于光刻设备中的投影系统，所述投影系统包括透射式光学元件以及热分布修正器，所述热分布修正器配置用于改变所述透射式光学元件的热分布，所述热分布修正器包括传递部件和热分布调节器，所述传递部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以将所需的热分布从热分布调节器传递给所述透射式光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种适用于光刻设备中的投影系统，所述投影系统包括：透射式光学元件；以及热分布修正器，所述热分布修正器配置用于改变所述透射式光学元件的热分布，所述热分布修正器包括传递部件和热分布调节器，所述传递部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以将所需的热分布从热分布调节器传递给所述透射式光学元件。
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