[发明专利]用于加工和观测样品的设备以及加工和观测截面的方法有效
| 申请号： | 200810095150.X | 申请日： | 2008-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101298662A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 藤井利昭;高桥春男;田代纯一 | 申请（专利权）人： | 精工电子纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/52 | 分类号： | C23C14/52;C23C14/04;C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王洪斌;刘宗杰 |
| 地址： | 日本千叶*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 用于加工和观测样品的设备，包含：样品板，在样品板上要放置样品；第一离子束透镜镜筒，能够同时在整个预定照射范围上照射第一离子束；掩模，能够被设置在样品板和第一离子束透镜镜筒之间，并且遮蔽第一离子束的一部分；掩模移动装置，能够移动掩模；带电粒子束透镜镜筒，能够在第一离子束照射的范围内扫描聚焦的带电粒子束；以及检测装置，能够检测二次生成物质。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 加工 观测 样品 设备 以及 截面 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于加工和观测样品的设备，包含：样品板，在样品板上要放置样品；第一离子束透镜镜筒，能够使用第一离子束同时在整个预定照射范围上对放置在所述样品板上的所述样品进行照射；掩模，能够被设置在所述样品板和所述第一离子束透镜镜筒之间，并且遮蔽所述第一离子束的一部分；掩模移动装置，能够在XY平面上移动所述掩模，所述XY平面与第一离子束透镜镜筒的所述第一离子束的照射方向基本成直角相交；带电粒子束透镜镜筒，能够在所述第一离子束照射的所述范围内扫描聚焦的带电粒子束；以及检测装置，能够检测通过使用来自所述带电粒子束透镜镜筒的所述带电粒子束对所述样品或所述掩模进行照射而产生的二次生成物质。
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