[发明专利]基板薄化设备以及薄化基板的方法无效
申请号: | 200810096326.3 | 申请日: | 2008-03-14 |
公开(公告)号: | CN101265030A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 李承郁;李义玉 | 申请(专利权)人: | 宇进先行技术株式会社 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王新华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供一种基板薄化设备和一种使用所述基板薄化设备的薄化玻璃基板的方法,其中所述基板薄化设备包括支撑待蚀刻的基板的支撑板、容纳支撑板的腔室和喷射用于蚀刻基板的蚀刻剂的喷嘴,其中支撑板倾斜设置,并且由支撑板支撑的基板也倾斜设置。 | ||
搜索关键词: | 基板薄化 设备 以及 薄化基板 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基板薄化设备,包括:支撑待蚀刻的基板的支撑板;容纳所述支撑板的腔室;和喷射用于蚀刻所述基板的蚀刻剂的喷嘴,其中所述支撑板倾斜设置,并且由所述支撑板支撑的所述基板也倾斜设置。
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