[发明专利]自旋累积磁化反转型存储元件及自旋RAM有效

专利信息
申请号: 200810098862.7 申请日: 2008-05-19
公开(公告)号: CN101325087A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 三浦胜哉 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16;H01L43/08
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 熊志诚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及存储元件及自旋RAM。本发明提供一种耐久性优良的自旋存储器。其具备铁磁性字线、与铁磁性字线交叉的非磁性位线、与铁磁性字线相对的布线和在铁磁性字线及非磁性位线的交叉部分和布线之间设置的磁阻效应元件。在写入动作时,通过使电流在铁磁性字线和上述非磁性位线之间流动,并使自旋从铁磁性字线累积到非磁性位线,从而使磁阻效应元件的自由层的磁化方向反转。在读出动作时,使电流在非磁性位线和布线之间流动,使电流沿磁阻效应元件的膜厚方向流动。
搜索关键词: 自旋 累积 磁化 转型 存储 元件 ram
【主权项】:
1.一种存储元件,其特征是,具有:铁磁性字线,与上述铁磁性字线交叉的非磁性位线,与上述铁磁性字线相对的布线,在上述铁磁性字线及上述非磁性位线的交叉部分和上述布线之间设置的磁阻效应元件;上述磁阻效应元件具有在上述布线侧设置的第一铁磁性层,在上述铁磁性字线侧设置的第二铁磁性层,在上述第一铁磁性层和上述第二铁磁性层之间设置的非磁性层;在写入动作时,通过使电流在上述铁磁性字线和上述非磁性位线之间流动,使自旋从上述铁磁性字线累积到非磁性位线,从而使上述第二铁磁性层的磁化方向反转;在读出动作时,使电流沿上述磁阻效应元件的膜厚方向流动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810098862.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top