[发明专利]基板、磁性记录介质及其制造方法以及磁性存储设备无效
申请号: | 200810099344.7 | 申请日: | 2008-05-21 |
公开(公告)号: | CN101312049A | 公开(公告)日: | 2008-11-26 |
发明(设计)人: | 小野胜;吉田祐树;山口洁;菊池晓 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | G11B5/73 | 分类号: | G11B5/73;G11B5/84 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及基板、磁性记录介质及其制造方法以及磁性存储设备。该垂直磁性记录介质具有非磁性基板以及形成在基板之上的磁性记录结构。该磁性记录结构至少具有软磁性底层、中间层和磁性层。所述基板的表面轮廓曲线的倾角为2.0度以下,或者所述基板的周期(波长分量)在83nm以下至30nm以下范围内的表面粗糙度为0.15nm以下。 | ||
搜索关键词: | 基板 磁性 记录 介质 及其 制造 方法 以及 存储 设备 | ||
【主权项】:
1、一种用于垂直磁性记录介质的基板,其中所述基板由至少一种非磁性材料制成,并且所述基板的表面轮廓曲线的倾角为2.0度以下,或者所述基板的周期在83nm以下至30nm以下范围内的表面粗糙度为0.15nm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社,未经富士通株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810099344.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:帘式侧面气囊装置
- 下一篇:一种用于电瓶车的后驱动桥