[发明专利]抛光装置、基板制造方法及电子装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 200810099880.7 申请日: 2008-05-30
公开(公告)号: CN101362308A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 十仓史彦;竹内光生 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;H01L21/00;H01L21/304;H01L21/3105
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 冯志云
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了一种抛光装置、基板制造方法及电子装置的制造方法,其中的抛光装置设置成对工件的两个表面同时进行抛光,该抛光装置包括:恒星齿轮,其绕着一对抛光表面中的一个抛光表面的旋转轴设置;载体,其具有设置成容放所述工件的孔,所述载体包括齿以便作为绕着所述恒星齿轮自转和公转的行星齿轮;以及第一防尘机构,其包括位于所述恒星齿轮与所述载体中的孔之间的第一弹性构件,所述第一弹性构件接触所述载体的、与所述抛光表面之一相对的一个表面。
搜索关键词: 抛光 装置 制造 方法 电子
【主权项】:
1.一种抛光装置,设置成对工件的两个表面同时进行抛光,所述抛光装置包括:恒星齿轮,其绕着一对抛光表面中的一个抛光表面的旋转轴设置;载体,其具有设置成容放所述工件的孔,所述载体包括多个齿以便作为绕着所述恒星齿轮自转和公转的行星齿轮;以及第一防尘机构,其包括位于所述恒星齿轮与所述载体中的孔之间的第一弹性构件,所述第一弹性构件接触所述载体的、与所述抛光表面之一相对的一个表面。
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