[发明专利]一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置无效
申请号: | 200810100859.4 | 申请日: | 2008-02-25 |
公开(公告)号: | CN101271283A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 赵维谦;周桃庚;张旭升;沙定国;何川;陈凌峰;林家明;邱丽荣;苏大图 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/00 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 | 代理人: | 张利萍 |
地址: | 100081北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置,属于光电测试技术领域。本发明旨在解决影响光刻质量的成像物镜像面杂光这个关键成像性能的高精度测量与评估。本发明由点光源照明系统、光刻物镜、像方接收系统组成;光刻物镜放置在点光源孔的光路上。像方接收系统由小孔光阑、中继光学系统、积分球后端的牛角消光管、光电探测器、信号处理系统组成。点光源照明系统的光线通过光刻机物镜像方上的小孔光阑后的艾里斑像,然后由积分球探测,测得光刻机物镜点光源工作条件下的随照明视场变化的杂光系数。本发明装置具有探测信噪比高、精度高,功能强,可用于新研制和使用中的光刻机物镜成像质量的检测、监控与评估。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 物镜 光源 工作 条件下 系数 测试 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置,其特征在于:由点光源照明系统(1)、光刻物镜(3)、像方接收系统(11)组成;光刻物镜(3)放置在点光源孔(2)的光路上。
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