[发明专利]一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置无效
| 申请号： | 200810100860.7 | 申请日： | 2008-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN101271284A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 周桃庚;赵维谦;张旭升;沙定国;何川;陈凌峰;林家明;邱丽荣;苏大图 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 | 代理人： | 张利萍 |
| 地址： | 100081北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置，属于光电测试技术领域。本发明包括内置在积分球内的光源、放置在积分球出口光路上的掩膜板、掩膜板透射光路上的光刻物镜、以及中继光学系统、带牛角消光管、光电探测器的积分球、信号处理系统。照明光源发出光线经积分球内表面多次反射后从积分球开口射出均匀投射到掩膜板上，经光刻物镜的艾里斑像，被中继光学系统会聚到积分球后端的牛角消光管内全部吸收，其余杂光均被积分球内表面多次反射后，被光电探测器接收，最后由信号处理系统输出光刻物镜的轴上点杂光系数。本发明具有探测信噪比高、精度高，功能强，可用于新研制和使用中的光刻机物镜成像质量的检测、监控与评估。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 物镜 照明 条件下 系数 测试 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置，其特征在于：由物方发射系统(11)和像方接收系统(12)组成；物方发射系统(11)包括内置在积分球(2)内的光源(1)、放置在积分球(2)出口光路上的掩膜板(3)；像方接收系统(12)包括掩膜板(3)透射光路上的光刻物镜(4)、以及中继光学系统(5)、带牛角消光管(7)、光电探测器(8)的积分球(6)、信号处理系统(9)；在像方积分球(6)端采用带牛角型消光管(7)和光电探测器(8)测量符合光刻机掩膜照明条件下不同视场的杂光系数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学，未经北京理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810100860.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
