[发明专利]氧化钇掺杂氧化镧坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法无效
| 申请号： | 200810101789.4 | 申请日： | 2008-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101239831A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 徐惠彬;高明;龚路杰;唐晓霞;张虎 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C04B35/66 | 分类号： | C04B35/66;C04B35/50;C04B35/622;C22B9/04 |
| 代理公司： | 北京永创新实专利事务所 | 代理人： | 周长琪 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种氧化钇掺杂氧化镧坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化钇掺杂氧化镧坩埚的成分为每10g的氧化钇Y2O3中掺杂有0.2～1.2g的氧化镧。在用于热压烧结的氧化钇Y2O3粒径为0.01～20μm，氧化镧La2O3粒径为0.01～20μm。本发明氧化钇掺杂氧化镧坩埚使用温度为1600～2000℃，且在该温度环境下作为真空熔炼的器具，坩埚内表面未参与活性金属或合金的反应，从而提高了熔体的纯净度。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化钇 掺杂 氧化 坩埚 及其 采用 热压 烧结 方法 | ||
【主权项】：
1、一种氧化钇掺杂氧化镧坩埚，其特征在于：氧化钇掺杂氧化镧坩埚的成分为每10g的氧化钇Y2O3中掺杂有0.2～1.2g的氧化镧La2O3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学，未经北京航空航天大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810101789.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
