[发明专利]用于位置测量装置的刻度尺以及位置测量装置有效
| 申请号： | 200810108831.5 | 申请日： | 2008-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN101311665A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | H·托瓦尔 | 申请（专利权）人： | 约翰尼斯海登海恩博士股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B3/04 | 分类号： | G01B3/04;G01B11/00;G01B11/02;G01D5/36 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曹若 |
| 地址： | 德国特劳*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 按本发明的刻度尺(M)或者说按本发明的位置测量装置的基本原理是，将在横向于测量方向(X)错开的刻度区(TS1、TS2)中的基准标记(R)移动在一个刻度区(TS1、TS2)的内部的基准标记(R)的间距(A)的一小部分。由此提供一种可能性，即通过所述基准标记(R)来消除或至少明显降低刻度区(TS1、TS2)的周期性(P)的干扰的负面影响。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 位置 测量 装置 刻度尺 以及 | ||
【主权项】：
1.用于位置测量装置的刻度尺，其中所述刻度尺(M)拥有沿测量方向(X)P-周期性的刻度区(TS1、TS2)，所述刻度区(TS1、TS2)以有规律的间距(A)具有集成的、以所述P-周期性的中断的形式出现的基准标记(R)，其特征在于，所述刻度尺(M)横向于测量方向(X)错开地具有至少两个所述的P-周期性的刻度区(TS1、TS2)，所述刻度区(TS1、TS2)的集成的基准标记(R)沿测量方向相互错开。
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