[发明专利]日照控制低辐射涂层有效
| 申请号： | 200810109199.6 | 申请日： | 2008-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101367620A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | J·R·杰曼;G·L·普法夫 | 申请（专利权）人： | 卡迪奈尔镀膜玻璃公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 苗征;于辉 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供具有日照控制低辐射涂层的基底。该日照控制低辐射涂层包括一层或多层介电吸收膜。在一些实施方案中，所述介电吸收膜具有小于1.9的吸收比k380＜λ＜450nm/k650＜λ＜760nm。 | ||
| 搜索关键词： | 日照 控制 辐射 涂层 | ||
【主权项】：
1.具有日照控制低辐射涂层的透明基底，该涂层包含：包含银的最内层红外反射膜和包含银的最外层红外反射膜；位于基底和最内层红外反射膜之间的第一介电吸收膜，该第一介电吸收膜具有在0.52和1.9之间的中性吸收比k380<λ<450nm/k650<λ<760nm；和比最外层红外反射膜距离基底更远的第二介电吸收膜，该第二介电吸收膜具有在0.52和1.9之间的中性吸收比k380<λ<450nm/k650<λ<760nm。
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