[发明专利]半导体装置及其制造方法无效
申请号: | 200810109850.X | 申请日: | 2008-05-30 |
公开(公告)号: | CN101315918A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
发明(设计)人: | 竹原秀树;立冈一树 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L23/31;H01L25/00;H01L21/50;H01L21/56;H01L21/60;H05K1/18;H05K1/02;H05K3/34 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 沈昭坤 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种半导体装置及其制造方法,在基板(1)的表面侧形成构成半导体元件的第1电路图案(3),在第1电路图案(3)上形成第1绝缘层(2),在第1绝缘层(2)上形成连接外部用的焊锡电极(5),在基板(1)的背面侧也形成第2绝缘层(6)并在其上形成第2电路图案(7),形成穿通孔(8)以将第1电路图案(3)和第2电路图案(7)连接,在第2电路图案(7)上安装芯片型被动零件(9),并且用环氧树脂(10)对背面侧进行整体的树脂密封以覆盖芯片型被动零件(9)。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,包括:形成于利用薄板的单层构造而制成的基板的第1主面、且构成半导体元件的第1电路图案;形成于所述基板的与所述第1主面相反侧的第2主面的第2电路图案;形成于所述第1电路图案和所述第2电路图案之间且穿通所述基板以将它们连接的穿通孔;形成于所述第1电路图案上的连接外部用的焊锡电极;以及安装于所述第2电路图案上的芯片型被动零件,所述半导体装置对所述第2主面进行整体的树脂密封以覆盖所述芯片型被动零件。
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