[发明专利]出光均匀的发光二极管结构及其制造方法无效
| 申请号： | 200810110580.4 | 申请日： | 2008-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN101599519A | 公开（公告）日： | 2009-12-09 |
| 发明（设计）人： | 邱维铭;钱玉树;陈佳珍;刘忠祺 | 申请（专利权）人： | 国立勤益科技大学 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁;张华辉 |
| 地址： | 台湾省台中县太*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种出光均匀的发光二极管结构及其制造方法，该出光均匀的发光二极管结构，包括一反射杯；一发光二极管系设于该反射杯的底部；及一荧光基板设于该发光二极管的上方，并设于该反射杯的顶部；其中该荧光基板的厚度的误差小于1％。该出光均匀的发光二极管结构的制造方法，其步骤包括将一发光二极管设于一反射杯的底部；及将一荧光基板设于该发光二极管的上方，并设于该反射杯的顶部。本发明能减少发光二极管结构发出的光源的色温不均匀及黄圈光晕的现象，使发光二极管结构能发出均匀的白光。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 发光二极管 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种出光均匀的发光二极管结构，其特征在于，包括：一反射杯；一发光二极管设于该反射杯的底部；及一荧光基板设于该发光二极管的上方，并设于该反射杯的顶部；其中该荧光基板厚度的误差小于1％。
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