[发明专利]用于CVD腔室清洗的远程诱导耦接的等离子体源

摘要

本发明主要包括远程等离子体源和在远程等离子体源中产生等离子体的方法。清洗气体可在远程位置被激发为等离子体并且随后提供到处理腔室。通过在冷却RF线圈外部流动清洗气体，在可高压或低压下并且将高RF偏压施加到线圈而激发等离子体。冷却RF线圈可减少线圈的溅射并从而减少与清洗气体等离子体一起被输送到处理腔室的不期望污染物。减少线圈的溅射可延长远程等离子体源的使用寿命。

主权项

1、一种远程等离子体源，包含：外壳；与所述外壳耦接的气体入口；与所述外壳耦接的等离子体出口；设置在所述外壳内的金属管道，该金属管道具有外侧表面和内侧表面；与所述外侧表面耦接的射频输入；以及与所述内侧表面耦接的第一冷却液入口。