[发明专利]氮化镓基发光二极管芯片及其制作方法无效
申请号: | 200810111589.7 | 申请日: | 2008-06-10 |
公开(公告)号: | CN101604715A | 公开(公告)日: | 2009-12-16 |
发明(设计)人: | 王孟源;陈国聪 | 申请(专利权)人: | 普光科技(广州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/78 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵 军;张颖玲 |
地址: | 510530广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种氮化镓基发光二极管芯片,从下往上依次包括蓝宝石衬底、N型氮化镓、有源区、P型氮化镓、透明导电层,形成在透明导电层上的P电极,及形成在N型氮化镓外露的表面上的N电极,其中,所述P型氮化镓的边缘区域未被透明导电层覆盖,该未被透明导电层覆盖的边缘区域为切割道。本发明还公开一种氮化镓基发光二极管芯片的制作方法,包括以下步骤:在外延片的P型氮化镓的表面定位出需蚀刻的区域;蚀刻该区域,直至露出N型氮化镓;在P型氮化镓的表面制作透明导电层,但露出P型氮化镓的边缘区域作为切割道;在透明导电层上制作P电极,并在露出的N型氮化镓上制作N电极,以形成发光二极管芯片;将外延片切割成多个芯片。 | ||
搜索关键词: | 氮化 发光二极管 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1、一种氮化镓基发光二极管芯片,从下往上依次包括蓝宝石衬底、N型氮化镓、有源区、P型氮化镓、透明导电层,形成在透明导电层上的P电极,及形成在N型氮化镓外露的表面上的N电极,其特征在于,所述P型氮化镓的边缘区域未被透明导电层覆盖,该未被透明导电层覆盖的边缘区域为切割道。
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