[发明专利]清洗方法及清洗机台有效
| 申请号： | 200810113695.9 | 申请日： | 2008-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN101592875A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | 刘佑铭;何永根 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/311 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李 丽 |
| 地址： | 100176北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种清洗方法，包括，配制包含清洗溶液和氧化溶液的混合溶液；利用所述混合溶液对运行于清洗机台中的所述基底执行清洗操作，所述混合溶液的配置过程是利用所述清洗机台在所述基底的运行过程中完成的，且配制所述混合溶液时放出热量。可增强清洗效果且不增加设备的能量消耗。本发明还提供了一种清洗机台，可增强清洗效果且不增加能量消耗。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 机台 | ||
【主权项】：
1.一种清洗方法，包括，配制包含清洗溶液和氧化溶液的混合溶液；利用所述混合溶液对运行于清洗机台中的所述基底执行清洗操作，其特征在于：所述混合溶液的配置过程是利用所述清洗机台在所述基底的运行过程中完成的，且配制所述混合溶液时放出热量。
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