[发明专利]含有碳纳米管的电磁屏蔽材料及其采用化学镀工艺的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810114304.5 申请日: 2008-06-02
公开(公告)号: CN101304650A 公开(公告)日: 2008-11-12
发明(设计)人: 肇研;段跃新;薛亚娟;孙莉莉;郑浩 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;C23C18/18;C23C18/48
代理公司: 北京永创新实专利事务所 代理人: 官汉增
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种含有碳纳米管的电磁屏蔽材料及其采用化学镀工艺制备电磁屏蔽材料的方法,所述电磁屏蔽材料由碳纳米管、金属铁、金属钴组成,其中电磁屏蔽材料中金属铁的质量百分比为5~10,金属钴的质量百分比为10~15,余量为碳纳米管。采用化学镀工艺制得电磁屏蔽材料厚度为2~3mm时的吸收强为30~40dB,频宽为5~18GHz,电磁屏蔽材料的密度为2.2~3.0g/cm3
搜索关键词: 含有 纳米 电磁 屏蔽 材料 及其 采用 化学 工艺 制备 方法
【主权项】:
1、一种含有碳纳米管的电磁屏蔽材料,其特征在于:由碳纳米管、金属铁、金属钴组成,其中电磁屏蔽材料中金属铁的质量百分比为5~10,金属钴的质量百分比为10~15,余量为碳纳米管。
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