[发明专利]一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料无效
| 申请号： | 200810114867.4 | 申请日： | 2008-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101306795A | 公开（公告）日： | 2008-11-19 |
| 发明（设计）人： | 赵泽宇;崔建华;史浩飞;罗先刚;杜春雷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 贾玉忠;卢纪 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于：选择抛光硅基片，并在其表面沉积一层微米量级的铝膜；采用电化学二步阳极氧化法在铝膜表面制备出厚度＜1微米的多孔氧化铝模板；生成单通道纳米孔阵列AAO模板；用侧向真空沉积法在单通道纳米孔阵列AAO模板上沉积一层金属膜层；选择光学材料基底，将纳米孔阵列AAO模板有金属膜层的一面与基底连接；去除硅基片；对背面的金属铝膜层和氧化铝阻挡层进行腐蚀，形成孔道阵列双通形式的AAO模板；用侧向真空沉积法在AAO模板另一侧沉积金属膜层，制作完成；本发明成本低廉、加工周期短、加工图形区域面积大、可精确实现上下两层金属网格之间纳米量级对准，在光波段人工结构材料的基础理论研究及实际应用方面具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 aao 模板 制作 波段 人工 复合 结构 材料 | ||
【主权项】：
1、一种利用AAO模板制作光波段人工复合结构材料，其特征在于包括以下步骤：(1)选择硅基片，并将其表面抛光；然后在其表面溅射沉积一层厚度在微米量级的高纯铝膜；(2)在高纯铝膜表面采用电化学二步阳极氧化方法，制备出厚度＜1微米的多孔氧化铝模板；同时，通过调节电解溶液的种类、浓度、电压以及电解时间等工艺条件得到结构参数不同的单通道的纳米孔阵列AAO模板；(3)采用侧向真空沉积技术在单通道的纳米孔阵列AAO模板上沉积一层厚度在10～30纳米的金属膜层；(4)选择一块合适大小的光学材料基底，将纳米孔阵列AAO模板沉积有金属膜层的一面与光学材料基底表面连接在一起；(5)去除硅基片；(6)对背面的金属铝膜层和氧化铝阻挡层进行腐蚀，形成孔道阵列双通形式的AAO模板；(7)采用侧向真空沉积技术，再次在AAO模板的另一侧沉积厚度10～30纳米的金属膜层，一种利用AAO模板制作的光波段人工复合结构材料制作完成。
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