[发明专利]一种太阳光谱选择性吸收膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810117950.7 申请日: 2008-08-18
公开(公告)号: CN101344334A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 范天方 申请(专利权)人: 范天方
主分类号: F24J2/48 分类号: F24J2/48;F24J2/05;F24J2/24;B32B7/02;C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 北京国林贸知识产权代理有限公司 代理人: 刁玉生
地址: 271000*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种太阳光谱选择性吸收膜及其制备方法,包括一个覆膜基体,在该基体表面上由内向外依次覆盖红外反射层、吸收层、减反射层;所述的红外反射层是包含有钛元素+铝元素+硅元素的溅射沉积层,所述的吸收层是包含有铝氮团簇+钛氮团簇+硅氮团簇+铝钛硅团簇的溅射沉积层;所述的减反射层是包含有铝氮团簇+钛氮团簇+硅氮团簇的溅射沉积层,本发明采用钛硅合金靶和铝合金靶的溅射工艺;采用本发明的太阳能集热管对太阳光谱的全色吸收率α≥94%,总发射率ε≤4.5%,太阳能集热管空晒性能可以提高21.33%。可常年在高于400℃的温度下使用。
搜索关键词: 一种 太阳 光谱 选择性 吸收 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种太阳光谱选择性吸收膜,包括一个覆膜基体,在该基体表面上由内向外依次覆盖红外反射层、吸收层、减反射层;其特征在于:所述的红外反射层是包含有钛元素+铝元素+硅元素的溅射沉积层,所述的吸收层是包含有铝氮团簇+钛氮团簇+硅氮团簇+铝钛硅团簇的溅射沉积层;所述的减反射层是包含有铝氮团簇+钛氮团簇+硅氮团簇的溅射沉积层。
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