[发明专利]一种具有功能特性的异质结场效应管有效

专利信息
申请号: 200810118114.0 申请日: 2008-08-12
公开(公告)号: CN101651151A 公开(公告)日: 2010-02-17
发明(设计)人: 吕惠宾;杨芳;何萌;金奎娟;杨国桢 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/267;H01L29/51;H01L21/336
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人: 高存秀
地址: 100190北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种具有功能特性的异质结场效应管,包括在n型或p型衬底1上生长一p型或n型钙钛矿氧化物材料层,在p型或n型钙钛矿氧化物材料层上刻蚀一槽,该槽一侧的钙钛矿氧化物材料层为源极,另一侧的钙钛矿氧化物材料层为漏极,在源极、漏极和槽上沉积栅绝缘材料,并且在源极和漏极之上的栅绝缘材料部分分别刻蚀一源电极引线孔和漏电极引线孔,在该源电极引线孔内制备源电极,在漏电极引线孔内制备漏电极,在栅绝缘材料上制备栅电极7。源极和漏极还可以由两层或两层以上的钙钛矿氧化物p-n异质结材料组成。本发明提供的硅和氧化物场效应管不仅把钙钛矿氧化物和硅电子学结合起来,具有功能特性。
搜索关键词: 一种 具有 功能 特性 异质结 场效应
【主权项】:
1、一种具有功能特性的异质结场效应管,衬底(1)、源极(2)、漏极(3)、栅绝缘材料层(4)、源电极(5)、漏电极(6)和栅电极(7);其特征在于,所述的衬底(1)是n型或p型硅单晶基片;所述的源电极(5)、漏电极(6)和栅电极(7)为导电金属层;其中所述的在n型或p型衬底(1)上生长一p型或n型钙钛矿氧化物材料层,并在所述的p型或n型钙钛矿氧化物材料层上刻蚀一槽,该槽一侧的钙钛矿氧化物材料层为源极(2),另一侧的钙钛矿氧化物材料层为漏极(3),在所述的p型或n型源极(2)、漏极(3)和所述的槽上沉积所述的栅绝缘材料层(4),并且在源极(2)和漏极(3)之上的栅绝缘材料层(4)部分分别刻蚀一源电极引线孔和漏电极引线孔,在该源电极引线孔内制备所述的源电极(5),在漏电极引线孔内制备所述的漏电极(6),在所述的栅绝缘材料层(4)上制备所述的栅电极(7);所述的源极(2)和漏极(3)是钙钛矿氧化物材料;所述的栅绝缘材料层(4)为非晶的SiO2材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810118114.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top