[发明专利]一种制作微元件的方法有效
| 申请号： | 200810118652.X | 申请日： | 2008-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN101654217A | 公开（公告）日： | 2010-02-24 |
| 发明（设计）人： | 于中尧;张瑶;杨栈茨 | 申请（专利权）人： | 博奥生物有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 关 畅;任凤华 |
| 地址： | 102206北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制作微元件的方法。该方法有两种，其一包括如下步骤：1)在基底表面制作环化橡胶负性光刻胶层；2)在环化橡胶负性光刻胶层上制作环氧基负性光刻胶层；3)进行光刻，得到微元件。另一种包括如下步骤：i)先在基底表面沉积电镀金属层；ii)在金属层表面制作环化橡胶负性光刻胶层；iii)在环化橡胶负性光刻胶层上制作环氧基负性光刻胶层；iv)光刻，得到具有三维微结构的器件；v)在具有三维微结构的器件上镀金属；vi)去除剩余的环氧基负性光刻胶和环化橡胶负性光刻胶，得到微元件。本发明的制作微元件的方法中使用环化橡胶负性光刻胶避免出现环氧基负性光刻胶在基底表面的龟裂和剥离。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 元件 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制作微元件的方法，包括如下步骤：1)在基底表面制作环化橡胶负性光刻胶层；2)在所述环化橡胶负性光刻胶层上制作环氧基负性光刻胶层；3)进行光刻，得到微元件。
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