[发明专利]一种抑制垂直腔面发射激光器发散角的方法无效
| 申请号： | 200810118964.0 | 申请日： | 2008-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101662123A | 公开（公告）日： | 2010-03-03 |
| 发明（设计）人： | 郑婉华;刘安金;邢名欣;渠宏伟;陈微;周文君;陈良惠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100083北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抑制垂直腔面发射激光器发散角的方法，该方法是通过在氧化限制型的垂直腔面发射激光器的上DBRs表面刻蚀空气孔图形来实现的。利用本发明，能够有效地抑制垂直腔面发射激光器的发散角，提高垂直腔面发射激光器的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 垂直 发射 激光器 发散 方法 | ||
【主权项】：
1、一种抑制垂直腔面发射激光器发散角的方法，其特征在于，该方法是通过在氧化限制型的垂直腔面发射激光器的上DBRs表面刻蚀空气孔图形来实现的。
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