[发明专利]平板加热器及等离子体加工设备有效
申请号: | 200810119172.5 | 申请日: | 2008-08-28 |
公开(公告)号: | CN101660143A | 公开(公告)日: | 2010-03-03 |
发明(设计)人: | 李谦 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;H01L21/00 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵镇勇 |
地址: | 100016北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种平板加热器及等离子体加工设备。在平板加热器的主支撑和加热板的边缘部位之间设置辅助支撑。辅助支撑可以是柱状四角支撑、柱状多点支撑,也可以是板状、圆锥状、棱锥状支撑。通过辅助支撑的辅助力量和反向热膨胀效果,改善了加热板平面的变形情况,维持平整性,使加热板与其上方的工艺基板接触良好,保证其加热性能和极板接地性能良好,机械结构稳定、对工艺参数的均匀性影响小,并可以通过调节辅助支撑的长度,有效的减少辅助支撑的更换和维护操作,降低支撑部件的维护成本。主要应用于等离子增强化学气相淀积设备或其它的等离子体加工设备。 | ||
搜索关键词: | 平板 加热器 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】:
1、一种平板加热器,包括主支撑、加热板,所述主支撑支撑于所述加热板的中部,其特征在于,所述加热板的边缘部位与所述主支撑之间连接有辅助支撑。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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