[发明专利]柔性衬底上生长ZnO纳米线阵列的方法无效
申请号: | 200810122113.3 | 申请日: | 2008-10-28 |
公开(公告)号: | CN101413141A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | 朱丽萍;王雪涛;叶志镇 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C30B7/00 | 分类号: | C30B7/00;C30B29/16;C01G9/02;C23C26/02 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 韩介梅 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开的柔性衬底上生长ZnO纳米线阵列的方法,步骤包括:将清洗过的柔性衬底放入脉冲激光沉积装置生长室中,以ZnO陶瓷为靶材,生长室通入O2气体,控制压强为0.01~2Pa,室温下在柔性衬底上脉冲激光沉积ZnO籽晶层;分别配置浓度为0.01~0.1mol/L的硝酸锌水溶液和六次甲基四胺水溶液,并按体积比1∶1混合,再将沉积有ZnO籽晶层的柔性衬底浸没于混合溶液中,在70~100℃下反应1~12h后取出,用去离子水漂洗,烘干,即可。本发明方法所用设备简单,易操作,制备的ZnO纳米线阵列化良好,粗细均匀,成本低,适宜于大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 柔性 衬底 生长 zno 纳米 阵列 方法 | ||
【主权项】:
1 柔性衬底上生长ZnO纳米线阵列的方法,包括以下步骤:1)分别配置浓度为0.01~0.1mol/L的硝酸锌水溶液和浓度为0.01~0.1mol/L的六次甲基四胺水溶液;2)将清洗过的柔性衬底放入脉冲激光沉积装置生长室中,以ZnO陶瓷为靶材,靶材与衬底之间的距离保持为4~6cm,生长室真空度至少抽至10-3Pa,生长室通入O2气体,控制压强为0.01~2Pa,室温下在柔性衬底上脉冲激光沉积ZnO籽晶层;3)将硝酸锌水溶液和六次甲基四胺水溶液按体积比1:1混合,再将上述沉积有ZnO籽晶层的柔性衬底浸没于混合溶液中,在70~100℃下反应1~12h后取出,用去离子水漂洗,烘干,即可。
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