[发明专利]一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置

摘要

本发明公开了一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置。浸没控制装置是设置在投影透镜组和硅片之间，由主体结构和随动密封结构两部分组成，其中随动密封结构嵌入在主体结构的密封腔体内。主体结构为圆柱体，上面开有镜头孔、注液腔、回收腔、气液混合回收腔、密封腔体及导线管路；随动密封结构包括随动环、联接部件、形变块和密封环。在硅片高速运动对液体产生牵拉作用的过程中，缝隙流场的边界形态会发生相应变化。采用随动密封结构可以抑制密封边界不同位置由于密封气体压力不足导致的液体泄漏，及密封气体压力过大导致的气泡卷吸，实现随动密封功能，确保了气密封的可靠性及稳定性。

主权项

1.一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置，是在投影透镜组(1)和硅片(3)之间设置的浸没控制装置(2)，其特征在于：所述的浸没控制装置(2)由主体结构(4)和随动密封结构(5)两部分组成；其中：1)主体结构(4)：为圆柱体，由圆心到圆周依次开有镜头孔(4A)、对称分布的弧形注液腔(4B)与弧形回收腔(4C)、气液混合回收腔(4D)、密封腔体(4E)和导线管路(4F)；锥形的镜头孔(4A)与投影透镜组(1)为过盈配合；注液腔(4B)与回收腔(4C)上部分为一组等分弧形小通孔，气液混合回收腔(4D)上部分开有等圆周分布的通孔，气液混合回收腔(4D)下部分开有多排、多个等圆周分布的小通孔，密封腔体(4E)上部分为等圆周分布的四组弧形小通孔；2)随动密封结构(5)：包括随动环(5A)、八个联接部件(5B)、四块形变块(5C)和二个密封环(5D)；随动密封结构(5)置于主体结构(4)的密封腔体(4E)内，随动密封结构(5)径向方向上由内向外构件排列为随动环(5A)、四块等圆周分布置的形变块(5C)；形变块(5C)上下端分别设有密封环(5D)，上下密封环(5D)与主体结构(4)之间固接，八个联接部件(5B)分两组与形变块(5C)的上下两端通过双头螺拴连接，形变块(5C)与主体结构(4)之间为粘接或螺栓联接。