[发明专利]一种制备单晶硅绒面的碱腐蚀溶液及方法无效
| 申请号： | 200810122243.7 | 申请日： | 2008-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN101423942A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 蒋冬;方为仁 | 申请（专利权）人： | 蒋冬;方为仁 |
| 主分类号： | C23F1/40 | 分类号： | C23F1/40 |
| 代理公司： | 杭州裕阳专利事务所（普通合伙） | 代理人： | 张骁敏 |
| 地址： | 324300*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明属于制造单晶硅太阳能电池领域，公开了一种制备单晶硅绒面的碱腐蚀溶液及方法。该溶液为碱溶液、异丙醇和Na2SiO3的混合液，其结构特点是还含有重量百分比为0.02‰～0.1‰的Pb(NO3)2或Pb；碱溶液的重量百分比为1％～3.5％，异丙醇的重量百分比为5％～7％，Na2SiO3的重量百分比为0.2％～2％。该方法为将单晶硅片浸泡在该碱腐蚀溶液中进行腐蚀反应，反应时间为20～30分钟，碱腐蚀溶液的温度为75～85℃。本发明具有使单晶硅片表面反射率降低、制备的绒面金字塔细密、成本低、操作简单、稳定有效制备单晶硅绒面的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 单晶硅 腐蚀 溶液 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制备单晶硅片绒面的碱腐蚀溶液，该溶液为碱溶液、异丙醇和Na2SiO3的混合液，其特征是：还含有重量百分比为0.02‰～0.1‰的Pb(NO3)2或Pb。
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