[发明专利]硅片清洗剂及其制备方法无效
申请号: | 200810123225.0 | 申请日: | 2008-06-13 |
公开(公告)号: | CN101314750A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
发明(设计)人: | 唐玉冰 | 申请(专利权)人: | 唐玉冰 |
主分类号: | C11D1/83 | 分类号: | C11D1/83;C11D3/06 |
代理公司: | 扬州市锦江专利事务所 | 代理人: | 江平 |
地址: | 211409江苏省仪征市大仪*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 硅片清洗剂及其制备方法,涉及光伏产业、硅片生产技术领域。主要由由椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚、焦磷酸钾、硼酸钠、氢氧化钾和水组成。本发明用少量的钾盐来代替钠盐增加其溶解度,并运用两种表面活性剂的复配,从而极大地提高其清洗性能。本发明不含任何有机溶剂,无任何刺激性气味,工作液的pH值在9~11,并且清洗效率高,使用周期长,对硅片无腐蚀性等特点。本发明与传统的硅片清洗剂相比单位成本下降近60%。 | ||
搜索关键词: | 硅片 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、硅片清洗剂,其特征在于由椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚、焦磷酸钾、硼酸钠、氢氧化钾和水组成。
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