[发明专利]喷嘴基板、液滴喷头及其制造方法、以及液滴喷出装置有效
| 申请号： | 200810126670.2 | 申请日： | 2008-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN101327682A | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 大谷和史;荒川克治 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;尚志峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种可以实现排出特性提高、喷嘴密度高密度化的喷嘴基板、液滴喷头以及喷嘴基板、液滴喷头的制造方法和液滴喷出装置。其中，用于排出液滴的喷嘴孔(11)包括：形成为与硅基板表面垂直的第一喷嘴部(11a)；第二喷嘴部(11b)，与第一喷嘴部同轴设置，其剖面面积大于第一喷嘴部的剖面面积；以及倾斜部(11c)，其剖面面积从第一喷嘴部朝向第二喷嘴部递增。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 喷头 及其 制造 方法 以及 喷出 装置 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴基板，其特征在于，包括：硅基板；以及用于喷出液滴的喷嘴孔，其中，所述喷嘴孔包括：第一喷嘴部，形成为与所述硅基板的表面垂直；第二喷嘴部，与所述第一喷嘴部同轴设置，剖面面积形成为大于所述第一喷嘴部；以及倾斜部，所述倾斜部的剖面面积从所述第一喷嘴部朝向所述第二喷嘴部递增。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社，未经精工爱普生株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810126670.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
