[发明专利]抗反射性聚合物、抗反射性组成物及形成图案的方法无效
| 申请号： | 200810126685.9 | 申请日： | 2008-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101362812A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;李晟求 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C08F228/04 | 分类号： | C08F228/04;C08L41/00;C08K5/42;G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾红霞;何胜勇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种抗反射性聚合物、抗反射性组成物及形成图案的方法，所述聚合物用于通过交联获得具有高折射率的抗反射膜。含有所述聚合物的所述抗反射性组成物特别适用于镶嵌工序及半导体器件制造过程中的使用ArF(193nm)的浸没式光刻工序。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 聚合物 组成 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物，包括化学式1所示的重复单元：[化学式1]![]()
其中R1与R2独立地为氢或甲基，R3为C1～C4烷基，m与n各为范围在0至4的整数，a与b为分别表示重复单元a与重复单元b的自然数。
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