[发明专利]创新连接结构和建立电穿孔的方法有效
申请号: | 200810127522.2 | 申请日: | 2008-06-25 |
公开(公告)号: | CN101442877A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 许轩儒;李察·华德·鲁考斯基 | 申请(专利权)人: | 许轩儒;李察·华德·鲁考斯基 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02;H05K1/11;H05K3/46;H05K9/00;H01L23/498;H01L23/482;H01L23/552;H01L21/48;H01L21/60 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供了一种创新连接结构和建立电穿孔的方法,所述创新连接结构在一堆叠电性层中设置有至少两电穿孔,所述堆叠电性层包含有至少两电性层和中间分隔的介质层,利用电穿孔来导通不同电性层或单独连接至电性层,达到电连接或是形成电容的作用。所述建立电穿孔的方法,包括下列步骤:在一堆叠电性层中建立一个穿孔结构;在所述穿孔结构中建立至少一电穿孔;将一个连接信号线的电穿孔设置在所述电穿孔的内围;将一电穿孔设置在所述连接信号线的电穿孔的内围;在所述穿孔结构的内围与外围分别设置一个电穿孔。本发明可以降低串音干扰,改善信号完整度,并降低电磁相容性。 | ||
搜索关键词: | 创新 连接 结构 建立 穿孔 方法 | ||
【主权项】:
1、一种创新连接结构,其特征在于,其包括:一堆叠电性层,其由上而下至少包含第一电性层、介质层和第二电性层;至少一内围电穿孔,贯穿所述堆叠电性层,并导通所述第一电性层与所述第二电性层;至少一外围电穿孔,贯穿所述堆叠电性层并环绕所述内围电穿孔,所述外围电穿孔导通所述第一电性层与所述第二电性层;一抗垫片,位于所述内围电穿孔与所述外围电穿孔之间。
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