[发明专利]创新连接结构和建立电穿孔的方法有效

专利信息
申请号: 200810127522.2 申请日: 2008-06-25
公开(公告)号: CN101442877A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 许轩儒;李察·华德·鲁考斯基 申请(专利权)人: 许轩儒;李察·华德·鲁考斯基
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K1/11;H05K3/46;H05K9/00;H01L23/498;H01L23/482;H01L23/552;H01L21/48;H01L21/60
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种创新连接结构和建立电穿孔的方法,所述创新连接结构在一堆叠电性层中设置有至少两电穿孔,所述堆叠电性层包含有至少两电性层和中间分隔的介质层,利用电穿孔来导通不同电性层或单独连接至电性层,达到电连接或是形成电容的作用。所述建立电穿孔的方法,包括下列步骤:在一堆叠电性层中建立一个穿孔结构;在所述穿孔结构中建立至少一电穿孔;将一个连接信号线的电穿孔设置在所述电穿孔的内围;将一电穿孔设置在所述连接信号线的电穿孔的内围;在所述穿孔结构的内围与外围分别设置一个电穿孔。本发明可以降低串音干扰,改善信号完整度,并降低电磁相容性。
搜索关键词: 创新 连接 结构 建立 穿孔 方法
【主权项】:
1、一种创新连接结构,其特征在于,其包括:一堆叠电性层,其由上而下至少包含第一电性层、介质层和第二电性层;至少一内围电穿孔,贯穿所述堆叠电性层,并导通所述第一电性层与所述第二电性层;至少一外围电穿孔,贯穿所述堆叠电性层并环绕所述内围电穿孔,所述外围电穿孔导通所述第一电性层与所述第二电性层;一抗垫片,位于所述内围电穿孔与所述外围电穿孔之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于许轩儒;李察·华德·鲁考斯基,未经许轩儒;李察·华德·鲁考斯基许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810127522.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top